Реактив для удаления позитивного фоторезиста | «СМТ Технологии»

back

Реактив для удаления позитивного фоторезиста

Производитель CIF
Модель: ARU

Описание

Рабочая температура: 17 - 23°C
Варианты упаковки: пакет 1 л, канистра 1 л

Остальные реактивы для производства печатных плат Вы можете просмотреть в нашем каталоге.