back

Реактив для удаления позитивного фоторезиста

Производитель CIF
Модель: ARU

Описание

Рабочая температура: 17 - 23°C
Варианты упаковки: пакет 1 л, канистра 1 л

Реактив для удаления позитивного фоторезиста предназначен для удаления остатков материала с поверхности печатных плат после процесса экспонирования. Обеспечивает высокую степень очистки, не повреждая медную подложку и другие материалы. Этот реагент легко наносится и быстро действует, что позволяет оптимизировать процесс производства.
Упаковка гарантирует удобство хранения и использования. Идеальное решение для производителей печатных плат, стремящихся к качеству и точности в своей работе.

Остальные реактивы для производства печатных плат Вы можете просмотреть в нашем каталоге.

Рекомендуемые товары