| 1XUV/VIS: | для спектра 355 нм – 532 нм |
| 1XIR/VIS: | для спектра 532 нм – 1064 нм |
| 2XVIS: | для увеличения 2000х (с объективом 100х) |
| UHD-камера | 5-18 Мегапикселей (опциально) |
| Резкость изображения в фокальной плоскости с точностью 1 мкм с диапазоном хода 50 мм |
| Регулируемое револьверное устройство |
| Устройство предназначено для установки 4-х объективов типа M26 x 1/36" (0.706), направленных вперед |
Остальное оборудование для инспекции качества полупроводников Вы можете просмотреть в нашем каталоге.
|
Области применения |
Контроль поверхности пластин, кристаллов, обследование устройств (в том числе интегральных) |
|
Бинокулярная насадка |
Широкопольная насадка с выходом для документирования и режимами работы: |
|
Окуляры |
Широкопольные, с оптикой на бесконечность 10x/24 мм Возможна установка окулярных сеток Ø25 мм |
|
Турель |
Турель для установки 3 линз: Инфракрасная 1x IR, ультрафиолетовая 1x UV, промежуточная линза с увеличением 2x |
|
Работа с лазером |
Выдвижной светоделитель, задвижка для обеспечения безопасности, прокладки |
|
Спектральный диапазон |
355 нм (УФ) – 532 нм (зеленый) – 1064 нм (ИК) |
|
Револьверное устройство |
Четверное, с установкой направлением вперед |
|
Объективы (опционально) |
Объективы типа Plan Apochromat с экстра- и ультра- большим рабочим расстоянием |
|
Диапазон увеличения микроскопа |
20x - 2000x |
|
Апертурная диафрагма |
Регулируемые глубина резкости и контраст. |
|
Блок фокусировки |
Перемещение 50 мм |
|
Освещение |
Отраженный свет для метода светлого поля |
|
Опциональный метод контрастирования |
Поляризация |
|
Оптоволоконный осветитель |
Переключаемый блок питания (115 В – 220 В) |
|
Масса (только головка) |
7,3 кг |
|
Размеры |
372 мм(В) x218 мм(Ш) x333 мм(Д) – с фокусировочным блоком |